本质上是。但是方程式不可以写成离子方程式形式，因为离子方程式要求化合物完全(至少要求主要)以自由离子存在，才可以写成离子符号。氟化氢是弱酸，难电离。二氧化硅更难于电离。产物也都是难电离物质。但是本反应，从反应机理上来说，有离子参与反应。气相氟化氢与二氧化硅是不反应的。在氟化氢的水溶液中，有氟离子存在，该反应才得以进行。有趣的是，在二氧化硅表面上涂上特殊的涂层，如胺、酮、醚、硝基化合物等，都可促使氟化氢的解离，这样二氧化硅就与氟化氢就可以反应了，这类物质称为锈蚀剂。另外，教材上写的化学方程式SiO2+4HF=SiF4+2H2O也只是一种简化的表达，实际上更复杂，还会有H2SiF6和H2SiO3生成。